argo-tele(4)

ตารางเปรียบเทียบ PVD และ CVD


คุณสมบัติ (Specification)

PVD

CVD

ขั้นตอนการผลิต

ทำความสะอาด --> PVD

อบอ่อน --> ขัดผิว --> CVD --> ชุบแข็ง --> ขัดผิวมัน

ระยะเวลากระบวนการ

8 ชั่วโมง

4 วัน

อุณหภูมิในการเคลือบ

450°C - 550°C

1100°C

วัสดุผิวเคลือบ

TiN, TiCN, TiAlN, CrN, AlCrN, DLC

TiC, TiCN

ความหนาผิวเคลือบ

0.001 - 0.014 mm

0.006 - 0.008 mm

ผลกระทบต่อขนาดชิ้นงาน

ตามความหนาของผิวเคลือบ

อัตราเดียวกับการชุบแข็ง

การเคลือบเฉพาะบางส่วน

ทำได้ด้วยการ masking ก่อนเคลือบ

ทำโดยลอกผิวที่ไม่ต้องการออกหลังเคลือบ

การเคลือบในรู

เคลือบได้ลึกเท่ากับความกว้างปากรู

เคลือบได้สมบูรณ์เหมือนผิวภายนอก

การชุบแข็ง

ต้องทำก่อนส่ง PVD

เป็นส่วนหนึ่งของกระบวนการ

วัสดุที่เคลือบได้

คาร์ไบด์ หรือเหล็กที่มีความแข็งพร้อมใช้งาน

คาร์ไบด์ หรือเหล็กเครื่องมือคาร์บอนสูง

ระยะเวลาส่งมอบ

3 วัน

7 - 10 วัน

ขนาดชิ้นงานที่เคลือบได้

Ø 900 x 1000 mm.

Ø 480 x 700 mm.

น้ำหนักชิ้นงานสูงสุด

600 kg.

150 kg.

สรุปจุดเด่นที่แตกต่างกันอย่างชัดเจน:
  • PVD: ใช้ความร้อนต่ำกว่า ใช้เวลาในกระบวนการน้อยกว่ามาก (หน่วยเป็นชั่วโมง) และสามารถรองรับชิ้นงานที่มีขนาดใหญ่และน้ำหนักมากกว่าได้
  • CVD: ใช้ความร้อนสูงมาก มีขั้นตอนที่ซับซ้อนกว่า (รวมถึงการชุบแข็งในตัว) แต่มีข้อดีคือสามารถเคลือบพื้นผิวในรูลึกได้อย่างสมบูรณ์เทียบเท่ากับผิวด้านนอก